数据存储
媒体和信息传输的持续增长，导致数据存储容量不断增长。硬盘驱动器、移动存储设备、移动电话和媒体播放器助长了这种需求。
Plasma-Therm 先后参加了近15年的数据存储市场的工作，提供与行业一同成长的可行的解决方案。因此，Plasma-Therm 拥有业界最大的蚀刻和PECVD流程设备安装基地。最近，Plasma-Therm 开始利用其在光掩膜蚀刻市场的经验，证明对200毫米晶圆的高镉均一性控制。
生产环境的再现性是由Plasma-Therm主动控制的ICP加热处理模块和集成的端点系统提供的。端点系统被称为EndpointWorks，能够与激光干涉仪、光发射光谱和其它输入协同工作。
典型应用
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碳化硅具有高蚀刻率，延长维修间隔
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高宽比剖面控制的极尖定义
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具备高蚀刻率和剖面控制的氧化铝蚀刻
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高CD控制的BARC蚀刻
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氧化物的低温沉积可以使用HDPCVD提供高密度、高品质的薄膜和沟槽填充物
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PECVD——低温、硬掩膜应用\
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图案媒介的纳米压印模板
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金属蚀刻（如铬、钽、TiW）
产品
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