研究与开发

为了始终占据科技前沿，大学、研究所和生产厂商持续不断地开展研发，为今天面对的许多全球挑战提供解决方案。从照明到数据存储，到清洁能源，以较低的成本和更小的形式追求更高效、提供更高性能的产品，是此类研发的主要动力。

Plasma-Therm 从成立以来一直是全球许多著名大学和研发机构的研究合作伙伴和供应商。此外，Plasma-Therm 内部也进行研发，不断完善我们产品已经令人印象深刻的性能和品质。通过手动负载、单基板和盒到盒的配置，我们提供了一系列广泛的等离子体蚀刻和沉积解决方案，满足您的研发需求。

Plasma-Therm先进的流程控制开发的EndpointWorks™ 给研究人员研究蚀刻和PECVD流程提供了宝贵的洞察力。此外再加上可重现性和低维护率，Plasma-Therm 成为研发的首选供应商。

典型应用

• 蚀刻
            - 硅
            - 氮化硅
            - 碳化硅
            - PSS（图案蓝晶石基板）
            - 氮化镓
            - 砷化镓
            - 磷化铝铟镓（及相关材料
            - 磷化镓
            - 石英

• 沉积
            - 氮化矽PECVD应力可控制在高水平，同时具有优良的保形
            - 二氧化硅-高分解电压，低应力，低温

产品

• LAPECVD™

• Vision系列

• VERSALINE^??