Mask Etcher^® Series 掩膜蚀刻机系列

Plasma-Therm 是干蚀刻行业的先驱，15年来在高度专业化的光掩膜市场上占据主导地位。

掩膜蚀刻机^® 系统为光掩膜生产设定干蚀刻性能和灵活度的标准。 Plasma-Therm的掩膜蚀刻机^® 解决方案是摩尔定律的关键实现因素，缩小技术节点。

各种各样的薄膜都可以采用蚀刻技术，从入门级的250微米技术到使用ICP高密度等离子体蚀刻系统生产< 32纳米薄膜。

通过创新技术实现良好的均匀性和微粒控制，同时保持较高的系统生产的正常运行时间。 Plasma-Therm 最新的第5代掩膜蚀刻机^® 擅长CD均匀性，线性度远低于5纳米。

掩膜蚀刻机^®2 – V型的 演变

硬件

• 专为高度专业化建设的专用平台
  光掩膜市场

• 多个前端处理选项
            -宴会厅/隔板安装
            -自动装载站（ALS）
            -自动前端（AFE）上的SMIF

端点
多功能的综合能力，具有 EndpointWorks 的综合多功能端点能力

• 激光干涉

• OES

• 系统参数

• 自定义输入（如RGA）

软件

• 用户友好的SEMI标准界面

• 综合数据记录

• 实时流程数据显示

• 完全集成的端点系统

• 工厂自动化兼容(SECS/GEM)

• 多用户访问级别

• 报警历史记录

流程

• 补偿均一性和负载效应

• 蚀刻偏差小

• 高保真

• 颗粒和缺陷小

• 线边缘粗糙度低

• 最大化生产率，降低拥有成本

如需了解更多信息，请联系我们 information@plasmatherm.com或致电 +1.727.577.4999 或致电1.727.577.4999