光掩膜
设备性能的提升外加价格下跌正在推动半导体技术的创新。光掩膜技术目前处在半导体国际技术路线图（ITRS）的前端。
Plasma-Therm一直是全球光掩膜市场的领先的干蚀刻系统供应商，已有超过15年的历史。目前我们拥有最大的面向科研和大规模生产的最大的安装基地。在该领域积累的广泛经验造成了行业的技术创新。
我们为所有主要光掩膜技术提供蚀刻解决方案的，其中包括二进制掩膜的铬（（Cr）蚀刻、嵌入式衰减相移光掩膜（EAPSM）的硅化钼（MOSI）蚀刻和交流孔相移光掩膜（AAPSM）的石英蚀刻。 Plasma-Therm 专注于下一代光刻技术，为光掩膜行业开发纳米压印和远紫外解决方案。
Plasma-Therm光掩膜蚀刻机® 系统可服务32纳米及以下的光掩膜技术节点。我们的系统提供了很高的利用率、低缺陷密度、高度的均一性、偏差和线性。
典型应用
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铬蚀刻
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硅化钼蚀刻
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石英蚀刻
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NGL：纳米压印和远紫外
产品
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