VERSALINE反应离子刻蚀

Plasma-Therm的VERSALINE反应离子刻蚀 系统可广泛安装于各类生产设施-从研发环境到大批量生产应用。VERSALINE反应离子刻蚀 为多种应用提供低维护率和高通用性。

基板尺寸便于使用，不需要重新配置硬件。如果未来要升级到ICP，可以选择高电导选项。

硬件

• 简单、低维护率的设计
        - 灵活的基板偏压选项，介于13.56兆赫和40兆赫之间
  

• 灵活、可升级的处理方式
        - ML — 直接手动加载（单基板或多基板）
        - LL — 单基板或多基板负荷装载机
        - CX — 盒到盒装载晶圆或负荷者

• 改进的预防性维护周期，热管理班轮室与泵列车

• 数字微型燃料电池配有过滤和绕过式天然气管道

• 磁悬浮涡轮泵

• 热能管理与单块电极架构

• 可用的基板电极温度范围在 –40ºC to 180ºC

• 针对具体流程的电极材料

端点
配备EndpointWorks的综合多功能端点能力

• 激光干涉

• OEI

• OES

• 系统参数

• 自定义输入（例如，RGA）

软件

• 用户友好的SEMI标准接口（E- 95）

• 综合数据记录

• 自动清洁程序（AMS）

• 实时流程数据显示

• 完全集成的端点系统

• 工厂自动化兼容(SECS/GEM)

• 运行期间编辑菜单

• 多用户访问级别

• 报警历史记录

流程

• 选择性可调

• 广泛的流程库

• 宽广的流程纬度

如需了解更多信息，请联系我们 information@plasmatherm.com 或致电+1.727.577.4999