데이터 스토리지

Plasma-Therm은 약 15년 동안 데이터 스토리지 시장에 참여하여 왔으며 산업성장에 맞추어 발전한 작업 솔루션을 제공하고 있습니다. 그 결과, etch 및 PECVD 공정에 가장 많은 Plasma-Therm 장비가 설치되어 있습니다. 최근에는 200mm 웨이퍼의 높은 CD 균일성을 보인 포토마스크 에칭 분야에서 자사의 경험을 십분 활용하고 있습니다.

능동제어 ICP 발열 프로세스 모듈과 통합 endpoint 시스템으로 생산 환경에 활력을 제공하고 있습니다. EndpointWorks로 알려진 endpoint 시스템은 laser 간섭계(interferometry), 광학방출 분광기(optical emission spectroscopy) 및 기타 입력시스템과 사용 가능합니다.

일반 어플리케이션

• 높은 etch rate의 SiC와 유지보수 기간 간격 연장

• Pole tip 해상도(definition) 및 고화상 프로파일 제어

• 높은 etch rate의 Alumina와 프로파일 제어

• 높은 CD 제어 및 BARC etch

• 낮은 온도에서 Oxide deposition 진행시 고밀도, 고품질 film 제공 및 HDPCVD 사용하여 trench충전

• PECVD — 낮은 Cost Of Ownership, hard mask applications

• patterned media를 위한 Nano-imprint templates

• Metal etching (e.g Cr, Ta, TiW)

제품

• LAPECVD™

• VERSALOCK™

• VERSALINE^®