R&D (연구개발)
오늘날 세계적으로 직면한 수많은 과제에 솔루션을 제공하고 기술 우위를 점유하기 위해 대학, 연구소, 제조업체 등이 지속적으로 연구개발을 진행하였습니다. 조명에서부터 데이터 스토리지, 청정에너지 제품까지 낮은 비용으로 높은 효율을 나타내고, 작으면서 뛰어난 성능을 지닌 제품에 대한 연구가 최근 연구 개발분야의 주요 동인입니다.
Plasma-Therm은 세계 유수의 대학 및 연구기관의 공급자이면서 연구 파트너의 역할을 담당해왔습니다. 또한, 이미 외부로부터 인정받은 성능과 품질을 더욱 더 향상하기 위해 연구개발을 진행하고 있습니다. 고객의 연구개발 요구에 부응하기 위해 수동 load, 단일기판(single-substrate), cassette-to-cassette configuration등으로 plasma etch 및 deposition의 다양한 솔루션을 제공하고 있습니다.
EndpointWorks™를 개발한 진보된 공정제어 기술로 연구진들에게 etch 및 PECVD 공정을 파악하는 데에 도움이 되었고 이 점이 제품 재현성 및 낮은 유지보수비용과 결합하여 Plasma-Therm을 우수 공급사로서 자리매김을 할 수 있게 해주었습니다.
일반 어플리케이션
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Etch
- Si
- SiN
- SiC
- PSS (patterned sapphire substrate)
- GaN
- GaAs
- AlGaInP (및 관련 재료)
- GaP
- Quartz
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Deposition
- 뛰어난 등각성(conformality)와 높은 스트레스 제어율을 보이는 SiNx PECVD
- SiO2— 고 항복전압(High breakdown voltage), 낮은 스트레스, 낮은 온도
제품
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