Mask Etcher® Series
Plasma-Therm은 15년 이상 포토마스크 시장에서 dry etching 분야의 선구자 역할을 해왔습니다.
Mask Etcher® 시스템은 포토마스크 생산과정의 dry etch 성능 및 사용에 있어서의 다양성의 기준을 세웠습니다. Mask Etcher® 솔루션은 무어의 법칙을 실현하는데 중요한 역할을 하였으며 노드별 기술 간격을 좁히고 있습니다.
ICP 고밀도 플라즈마 etch 시스템을 사용하여 250um의 기초단계의 기술로부터32nm 생산기술까지 광범위하게 etch기술을 보급하였습니다.
저희는 기존의 Wet etch 기술로부터 더욱 효율적이고 높은 생산성을 가지는 Dry etch 기술의 전환을 통하여 고객에게 비용절감이 가능케 하는 MLS Mask Etcher를 제공하고 있습니다. MLS의 장점은 향상된 해상도와 최소크기의 Etch Bias를 유지하면서 주요부위를 유지하는데 있습니다. MLS 장비는 180nm 포토마스크 기술을 위한 생산과 Mask Etcher III 에서 그보다 작은 Node로의 upgrade를 무난하게 수행합니다.
시스템 생산가동에서 높은 효율성을 나타냄과 동시에 혁신 기술을 통해 공정에 있어서 균일한 성능을 보이며 미세먼지 제어에도 뛰어난 성과를 거두었습니다. 최신 모델인 Generation V Mask Etcher®는 5nm 미만에서 CD 균일성과 Linearity에 있어서 탁월한 성능을 나타내고 있습니다.
Mask Etcher® 2-V 의 진화
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