MEMS/NEMS

이 장치들의 일반용도는 아래와 같습니다:

• 전자

• 유체공학

• 기계

• 자기학

• 음향학

• 광학

잉크젯, 자이로스코프, 가속기, 발진기 등 일부 장치는 상용화되어 사용되고 있습니다.

MEMS 및 NEMS 장비의 제조공정을 기본적으로 이해하여야 MEMS 및 NEMS를 다양하게 사용할 수 있습니다.

Plasma-Therm은 실리콘 및 deep oxide etching 기술을 결합한 다음과 같은 공정개발에 착수하였습니다.

• Parameter morphing을 이용한 프로파일 제어(특허)

• 공정별 시간을 단축 및 매끄러운 side wall처리

• 빠른 가스 스위칭(특허)

• 빠르고 안정적인 압력 제어(특허)

• Solid State RF Tuning

• Notchless silicon-on-insulator etching (특허 진행중)

• 획기적인 RF 바이어스 파형(waveform)

• 특허 획득한 Endpoint 알고리즘 기술

• 식각 비율(aspect ratio)에 따른 etching 감소(특허 진행 중)

• 공정안정성 (온도 안정화된 ICP)

이러한 응용기술은 탄력적인 운용과 사용범위에 있어서 타의 추종을 불허해왔으며 mask 재료 선택다양성에 있어서 우위를 차지해왔습니다.

Plasma-Therm은 MEMS/NEMS산업에 구체적인 솔루션을 계속적으로 제시하기 위해 노력할 것입니다.

제품

• VERSALINE^®