포토마스크

지난 15년간 Plasma-Therm은 세계 포토마스크 시장의 dry tech 시스템을 공급하는 주요 공급사로서의 역할을 담당하며 현재 R&D에서 생산라인까지 가장 많은 설치 이력을 가지고 있으며 이 분야에서의 풍부한 경험을 바탕으로 기술 혁신을 이루어왔습니다.

우리는 주요 포토마스크 분야에 바이너리 마스크(binary mask)용 크롬(Cr) etch, Embedded Attenuated Phase Shift Masks (EAPSM)를 위한 molybdenum silicide (MoSi) etch, Alternating Aperture Phase Shift Masks (AAPSM)를 위한 quartz Etch등의 etch 솔루션을 보급하였습니다.

Mask Etcher® 장비는 32nm 이하의 포토마스크 노드에 적용가능하며 높은 가동시간, 낮은 결함밀도, 높은 균일성, 바이어스 및 linearity를 나타냅니다.

일반 어플리케이션

• Cr etch

• Molysilicide etch

• Quartz etch

• NGL : Nano-Imprint and EUV

제품

• Mask Etcher^® Series