English Korean Chinese
 

½æ³×ÀÏ À̹ÌÁö¿¡ ¸¶¿ì½º Ä¿¼­¸¦ ´ë½Ã¸é Å« À̹ÌÁö·Î º¸½Ç ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù
Etch ¹× PECVD¿ë VERSALINE® Á¦Ç°
 

VERSALINE¢ç

Plasma-ThermÀÇ VERSALINE® Ç÷§ÆûÀº Àü¹® ¹ÝµµÃ¼ ½ÃÀå¿¡ Áö¼ÓÀûÀ¸·Î ´Ù¾çÇÑ ¾îÇø®ÄÉÀ̼ÇÀ» Á¦°øÇÏ¿´½À´Ï´Ù. ´Ù¾çÇÑ °í°´¿ä±¸»çÇ×À» ¸ÂÃâ ¼ö ÀÖµµ·Ï º¯µ¿ °¡´ÉÇÑ ±âÆÇ Çڵ鸵(substrate handling) configuration°ú °ü·Ã ±â¼úÀ» Á¦°øÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ¸ðµâ µðÀÚÀÎÀ» µµÀÔÇÏ¿´½À´Ï´Ù.

±âÆÇ Çڵ鸵 ±¸¼º
VERSALINE® Àº ¿©·¯ °¡Áö Çڵ鸵 ¿É¼ÇÀ» Á¦°øÇϸç, ¼öµ¿ load ±¸¼º¿¡¼­ ´ÜÀϱâÆÇ(single-substrate) Çڵ鸵À¸·Î ¶Ç´Â batch carrier loadlock¿¡¼­ ÀÚµ¿ Ä«¼¼Æ® Çڵ鷯·Î Àåºñ ¾÷±×·¹À̵尡 °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.

  • ML — ´ÜÀϱâÆÇÀ̳ª batch¿î¹Ý¿ë ¼öµ¿ loading

  • LL — ´ÜÀϱâÆÇ ȤÀº ´ÜÀÏ batch carrier¿ë loadlock

  • CX — Ä«¼¼Æ® loading

Etch

Deposition

°øÁ¤ Á¦¾î

  • ´Ù¾çÇÑ endpoint ±â¼ú¿¡ Àû¿ë °¡´ÉÇÑ EndpointWorks™

»ý»ê¼º Çâ»ó

  • µ¥ÀÌÅÍ ·Î±ë

  • AMS (ÀÚµ¿ À¯Áöº¸¼ö ½ºÄÉÁÙ·¯)

  • SECS/GEM