 |
½æ³×ÀÏ À̹ÌÁö¿¡ ¸¶¿ì½º Ä¿¼¸¦ ´ë½Ã¸é Å« À̹ÌÁö·Î º¸½Ç ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù
|
 |
Etch ¹× PECVD¿ë VERSALINE® Á¦Ç° |
|
 |
|
|
|
 |
 |
VERSALINE¢ç
Plasma-ThermÀÇ VERSALINE® Ç÷§ÆûÀº Àü¹® ¹ÝµµÃ¼ ½ÃÀå¿¡ Áö¼ÓÀûÀ¸·Î ´Ù¾çÇÑ ¾îÇø®ÄÉÀ̼ÇÀ» Á¦°øÇÏ¿´½À´Ï´Ù. ´Ù¾çÇÑ °í°´¿ä±¸»çÇ×À» ¸ÂÃâ ¼ö ÀÖµµ·Ï º¯µ¿ °¡´ÉÇÑ ±âÆÇ Çڵ鸵(substrate handling) configuration°ú °ü·Ã ±â¼úÀ» Á¦°øÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ¸ðµâ µðÀÚÀÎÀ» µµÀÔÇÏ¿´½À´Ï´Ù.
±âÆÇ Çڵ鸵 ±¸¼º
VERSALINE® Àº ¿©·¯ °¡Áö Çڵ鸵 ¿É¼ÇÀ» Á¦°øÇϸç, ¼öµ¿ load ±¸¼º¿¡¼ ´ÜÀϱâÆÇ(single-substrate) Çڵ鸵À¸·Î ¶Ç´Â batch carrier loadlock¿¡¼ ÀÚµ¿ Ä«¼¼Æ® Çڵ鷯·Î Àåºñ ¾÷±×·¹À̵尡 °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.
-
ML — ´ÜÀϱâÆÇÀ̳ª batch¿î¹Ý¿ë ¼öµ¿ loading
-
LL — ´ÜÀϱâÆÇ ȤÀº ´ÜÀÏ batch carrier¿ë loadlock
-
CX — Ä«¼¼Æ® loading
Etch
Deposition
°øÁ¤ Á¦¾î
-
´Ù¾çÇÑ endpoint ±â¼ú¿¡ Àû¿ë °¡´ÉÇÑ EndpointWorks™
»ý»ê¼º Çâ»ó
-
µ¥ÀÌÅÍ ·Î±ë
-
AMS (ÀÚµ¿ À¯Áöº¸¼ö ½ºÄÉÁÙ·¯)
-
SECS/GEM
|
|
|
 |